-
1 etching gas
English-German dictionary of Electrical Engineering and Electronics > etching gas
-
2 etching gas mixture
English-Russian big polytechnic dictionary > etching gas mixture
-
3 etching gas mixture
Электроника: смесь для газового травления -
4 etching gas mixture
суміш для газового травленняEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > etching gas mixture
-
5 etching gas mixture
English-Russian dictionary of microelectronics > etching gas mixture
-
6 etching
травлення (див. т-ж etch) - anisotropic etching
- anode etching
- batch etching
- blanket etching
- chemically assisted etching
- concentration dependent etching
- crystallographically sensitive etching
- deep reactive ion etching DRIE
- deep reactive ion etching
- differential etching
- digital etching
- diode ion etching
- diode etching
- dip etching
- directional etching
- dislocation etching
- dry process etching
- dry etching
- electron-beam induced etching
- excessive etching
- exciraer laser etching
- gas-phase plasma-assisted etching
- high-frequency ion etching
- hydrogen reactive ion etching
- ion etching
- ion-assisted plasma etching
- ion-beam induced etching
- isotropic etching
- jet etching
- laser-enhanced etching
- laser-induced pattern projection etching
- laser radical etching
- lateral etching
- lift-off etching
- light-induced etching
- low-pressure plasma etching
- low-pressure etching
- masked etching
- maskless etching
- maskless laser etching
- mesa etching
- microwave plasma etching
- microwave etching
- mild etching
- nonundercutting etching
- orientation-dependent etching
- oxygen gas plasma etching
- permeation etching
- photochemical etching
- photoelectrochemical etching
- photo-enhanced chemical dry etching
- photoexcited etching
- photo-initiated etching
- photoresist-masked etching
- plasma reactor etching
- plasma etching
- post etching
- preferential etching
- radical plasma etching
- radical etching
- radio-frequency plasma etching
- reactive ion etching
- regenerative etching
- resistless etching
- selective etching
- sharp etching
- sideways etching
- single-step laser etching
- spray etching
- sputter etching
- steady-state etching
- synchrotron radiation-assisted etching
- taper etching
- tetrode ion etching
- tetrode etching
- triode ion etching
- triode etching
- undercuttingetching
- undercutetching
- UV laser etching
- vacuum ultraviolet-assisted etching
- vertical etching
- VUV-assisted etching
- wet chemical etching
- wet etching
- zero-undercut etching -
7 etching
1. травление2. гравирование3. гравюра; офорт4. клише5. удаление незадубленного копировального слоя6. цветокорректирующее травление7. ретушь ослаблениемdry dot etching system — «сухая» корректура, «сухая» ретушь
8. медное клише9. офорт на меди10. травление медных клишеcounter-etching — декапирование, травление для удаления плёнки оксидов
dry etching — «сухое» травление
11. гравирование сухой иглой12. гравюра, выполненная способом «сухая игла»13. затравка14. ослабление15. травление растровых клишеfreeze etching — замораживание — травление
16. растровое клише17. травление штриховых клише18. штриховое клишеsoft ground etching — гравюра, изготовленная способом «мягкий лак»
splash etching — травление набрызгиванием ; струйное травление
19. чистое травление20. травление светлых участковfreeze etching method — метод замораживания — травления
21. травление цинковых клише22. штриховое цинковое травление -
8 etching
- channel etching
- deep etching
- dry etching
- dry plasma etching
- electrolytic etching
- gas etching
- ion etching
- ion-beam sputter etching
- isotropic etching
- jet etching
- lift-off etching
- mask etching
- masked etching
- mesa etching
- oxide etching
- photochemical etching
- photoresist-mask etching
- plasma etching
- reactive ion etching
- reactive plasma etching
- RF sputter etching
- selective etching
- silicon etching
- silicon dioxide etching
- sputter etching
- substraction etching
- surface etching
- thermal etching
- vapor etching
- vapor-phase etching
- wet etching -
9 etching
- channel etching
- deep etching
- dry etching
- dry plasma etching
- electrolytic etching
- gas etching
- ion etching
- ion-beam sputter etching
- isotropic etching
- jet etching
- lift-off etching
- mask etching
- masked etching
- mesa etching
- oxide etching
- photochemical etching
- photoresist-mask etching
- plasma etching
- reactive ion etching
- reactive plasma etching
- RF sputter etching
- selective etching
- silicon dioxide etching
- silicon etching
- sputter etching
- substraction etching
- surface etching
- thermal etching
- vapor etching
- vapor-phase etching
- wet etchingThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > etching
-
10 etching
1. травление (удаление поверхностного слоя материала под действием специально подбираемых химических реактивов)2. вытравливание (химическая или электрохимическая обработка поверхности материала с целью выявления структурных составляющих или гравировки)3. травящий4. травильныйacid etching — кислотное травление
anisotropic etching — ориентационное [анизотропное] травление
anodic etching — анодное травление ( в металлографии)
chemical etching — химическое травление
contour etching — фасонное травление
deep etching — глубокое травление, химическое фрезерование
electrochemical etching — электрохимическое травление
electrojet etching — электролитическое струйное травление
electrolytic etching — электролитическое травление
electron beam etching — травление электронным лучом
gas etching — газовое травление
ionic etching — ионное травление
ion-impulsive etching — ионное импульсное травление
jet etching — струйное травление
laser-indused thermal etching — тепловое травление излучением лазера
metallographic etching — металлографическое травление
photochemical etching — фотохимическое травление
potentiostatic etching — потенциостатическое травление
powderless etching — бесшламное травление
preliminary etching — предварительное травление
selective etching — избирательное травление
sputter etching — травление распылением
vacuum-cathodic etching — вакуумно-катодное травление
vapor phase etching — газофазное травление
English-Russian dictionary of aviation and space materials > etching
-
11 gas etching
газовое травление
—
[Я.Н.Лугинский, М.С.Фези-Жилинская, Ю.С.Кабиров. Англо-русский словарь по электротехнике и электроэнергетике, Москва, 1999 г.]Тематики
- электротехника, основные понятия
EN
Англо-русский словарь нормативно-технической терминологии > gas etching
-
12 etching solution
English-Russian big polytechnic dictionary > etching solution
-
13 gas-retaining property
The English-Russian dictionary general scientific > gas-retaining property
-
14 gas etching
Электроника: газовое травление -
15 gas plasma etching
Микроэлектроника: газоплазменное травление -
16 gas-phase plasma-assisted etching
Микроэлектроника: газофазное плазмостимулированное травлениеУниверсальный англо-русский словарь > gas-phase plasma-assisted etching
-
17 gas-phase plasma-assisted etching
газофазне плазмостимульоване травленняEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > gas-phase plasma-assisted etching
-
18 gas etching
-
19 gas etching
-
20 gas etching
См. также в других словарях:
etching gas mixture — dujinis ėsdinimo mišinys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. etching gas mixture vok. Ätzgasmischung, f rus. смесь для газового травления, f pranc. mélange pour décapage gazeux, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Etching (microfabrication) — Etching tanks used to perform Piranha, Hydrofluoric acid or RCA clean on 4 inch wafer batches at LAAS technological facility in Toulouse, France Etching is used in microfabrication to chemically remove layers from the surface of a wafer during… … Wikipedia
Gas cluster ion beam — Gas Cluster Ion Beams (GCIB) is a new technology for nano scale modification of surfaces. It can smooth a wide variety of surface material types to within an angstrom of roughness without subsurface damage. It is also used to chemically alter… … Wikipedia
Etching — For other uses of etch or etching, see Etching (disambiguation), for the history of the method, see old master prints. The Soldier and his Wife. Etching by Daniel Hopfer, who is believed to have been the first to apply the technique to… … Wikipedia
Gas Electron Multiplier — The Gas Electron Multiplier (GEM) is a type of gaseous ionization detector used in nuclear and particle physics and radiation detection. All gaseous ionization detectors are able to collect the electrons released by ionizing radiation, guiding… … Wikipedia
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Dry etching — refers to the removal of material, typically a masked pattern of semiconductor material, by exposing the material to a bombardment of ions (usually a plasma of reactive gases such as fluorocarbons, oxygen, chlorine, boron trichloride; sometimes… … Wikipedia
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Isotropic etching — In semiconductor technology isotropic etching is non directional removal of material from a substrate via a chemical process using an etchant substance. The etchant may be a corrosive liquid or a chemically active ionized gas, known as a… … Wikipedia
Plasma etching — is a form of plasma processing used to fabricate integrated circuits. It involves a high speed stream of glow discharge (plasma) of an appropriate gas mixture being shot (in pulses) at a sample. The plasma source, known as etch species, can be… … Wikipedia
Advanced Silicon Etching — Reaktives Ionentiefenätzen (engl. Deep Reactive Ion Etching, DRIE), eine Weiterentwicklung des reaktiven Ionenätzen (RIE), ist ein hoch anisotroper Trockenätzprozess für die Herstellung von Mikrostrukuren in Silicium mit Aspektverhältnissen (das… … Deutsch Wikipedia
